[发明专利]具有气体密封的化学沉积室

摘要

本发明涉及具有气体密封的化学沉积室。具有在化学隔离室内形成的化学沉积室的化学沉积装置包括气体密封。化学沉积室包括喷头模块，该喷头模块具有带气体入口的面板，气体入口用于将反应器化学物质输送到晶片腔以处理半导体衬底。喷头模块包括主排放气体出口，以从晶片腔去除反应气体化学物质和惰性气体。惰性气体供给装置输送密封气体，所述密封气体至少部分地通过喷头模块的台阶与基座模块之间的间隙径向向内流动以形成气体密封。次排放气体出口抽出流过间隙的惰性气体中的至少一些，以提供高的佩克莱特数。

主权项

1.一种具有气体密封的化学沉积室，其包括：喷头模块和基座模块，所述基座模块被配置为支撑面板下方的晶片腔中的半导体衬底；所述面板中的气体入口，其被配置为将工艺气体输送至所述晶片腔；主排放气体出口，其被配置为从所述晶片腔中去除反应气体化学物质和惰性气体；在所述晶片腔的外周处的环形台阶和惰性气体供给装置，所述惰性气体供给装置被构造成输送惰性密封气体以在所述环形台阶和所述基座模块之间的间隙中形成气体密封；以及位于所述主排放气体出口的径向外侧的次排放气体出口，所述次排放气体出口被构造成去除通过所述间隙径向向内流动的所述惰性气体中的至少一些。