[发明专利]蚀刻液组合物及使用它的薄膜晶体管显示面板的制造方法有效
申请号: | 201711373532.X | 申请日: | 2017-12-19 |
公开(公告)号: | CN108203827B | 公开(公告)日: | 2021-12-24 |
发明(设计)人: | 金俸均;郑在祐;朴弘植;金奎佈;申贤哲;李相赫 | 申请(专利权)人: | 三星显示有限公司;株式会社东进世美肯 |
主分类号: | C23F1/18 | 分类号: | C23F1/18;H01L21/3213;H01L21/28;H01L29/423 |
代理公司: | 北京德琦知识产权代理有限公司 11018 | 代理人: | 朴圣洁;王珍仙 |
地址: | 韩国*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及一种蚀刻液组合物及使用它的薄膜晶体管显示面板的制造方法。一实施例所涉及的蚀刻液组合物包含8重量%至20重量%的过硫酸盐、0.1重量%至10重量%的磷酸或亚磷酸、0.1重量%至5重量%的磷酸盐化合物、0.1重量%至6重量%的单氮类环状化合物、0.1重量%至5重量%的磺酸类化合物、0.1重量%至2重量%的唑类化合物及余量的水,所述唑类化合物与所述单氮类环状化合物的含量比为1:1至1:2。 | ||
搜索关键词: | 蚀刻 组合 使用 薄膜晶体管 显示 面板 制造 方法 | ||
【主权项】:
1.一种蚀刻液组合物,包含:8重量%至20重量%的过硫酸盐;0.1重量%至10重量%的磷酸或亚磷酸;0.1重量%至5重量%的磷酸盐化合物;0.1重量%至6重量%的单氮类环状化合物;0.1重量%至5重量%的磺酸类化合物;0.1重量%至2重量%的唑类化合物;及余量的水,所述唑类化合物与所述单氮类环状化合物的含量比为1:1至1:2。
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