[发明专利]一种等离子体清洗陶瓷膜装置

摘要

本发明公开了一种等离子体清洗陶瓷膜装置，包括清洗壳体、等离子体发生器、清洗底座、清洗柜门和行走轮，所述清洗壳体内部设置有清洗室，所述清洗室两侧壁安装有等离子体发生器，所述等离子体发生器之间形成有等离子电场，所述清洗室底部安装有清洗底座，所述清洗底座下侧安装有转轴，所述转轴下侧传动连接有电动机，且电动机安装在清洗壳体下侧，所述清洗壳体下侧安装有支撑脚，所述清洗壳体顶部安装有抽真空泵，所述抽真空泵通过输气管与清洗室连通，发明一种等离子体清洗陶瓷膜装置，通过将待清洗陶瓷膜的放置在清洗底座上，通过固定架进行压紧，通过等离子体发生器对陶瓷膜进行等离子体清洗。

主权项

一种等离子体清洗陶瓷膜装置，包括清洗壳体（1）、等离子体发生器（3）、清洗底座（5）、清洗柜门（7）和行走轮（9），其特征在于:所述清洗壳体（1）内部设置有清洗室（2），所述清洗室（2）两侧壁安装有等离子体发生器（3），所述等离子体发生器（3）之间形成有等离子电场，所述清洗室（2）底部安装有清洗底座（5），所述清洗底座（5）下侧安装有转轴（41），所述转轴（41）下侧传动连接有电动机（4），且电动机（4）安装在清洗壳体（1）下侧，所述清洗壳体（1）下侧安装有支撑脚（11），所述清洗壳体（1）顶部安装有抽真空泵（6），所述抽真空泵（6）通过输气管（61）与清洗室（2）连通，所述清洗底座（5）上端两侧安装有固定架（8）。