[发明专利]一种配向膜涂布方法及装置有效
| 申请号： | 201711378183.0 | 申请日： | 2017-12-19 |
| 公开（公告）号： | CN107894680B | 公开（公告）日： | 2020-07-31 |
| 发明（设计）人： | 郑俊丰 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G02F1/1337 | 分类号： | G02F1/1337 |
| 代理公司： | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人： | 潘中毅;熊贤卿 |
| 地址： | 430000 湖北省武汉市武*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明实施例公开了一种配向膜涂布方法，包括如下步骤：步骤S10、提供一待涂布配向膜的基板，并将待涂布配向膜的基板置于一个光学平台上；步骤S11、通过一具有配向膜印刷模板的印刷轮抵压所述基板，并按预定涂布方向滚动，将配向液均匀涂布在所述基板的待涂布区域上；其中，在所述涂布过程中，所述基板随所述光学平台转动，并与水平面呈一变化的夹角；步骤S12、在对待涂布区域涂布完成后，控制光学平台带动基板振动。本发明还公开了相应的配向膜涂布。实施本发明实施例，可以适用于不同流动性的配向膜，能够大幅提高配向膜的均一性，从而降低配向膜印刷不良类Mura的发生比例。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 膜涂布 方法 装置 | ||
【主权项】：
一种配向膜涂布方法，其特征在于，包括如下步骤：步骤S10、提供一待涂布配向膜的基板，并将该待涂布配向膜的基板置于一个光学平台上；步骤S11、通过一具有配向膜印刷模板的印刷轮抵压所述基板，并按预定涂布方向滚动，将配向液均匀涂布在所述基板的待涂布区域上；其中，在所述涂布过程中，所述基板随所述光学平台转动，并与水平面呈一变化的夹角；步骤S12、在对所述待涂布区域涂布完成后，控制所述光学平台带动所述基板振动。
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