[发明专利]像素结构及像素结构制造方法有效

专利信息
申请号: 201711382017.8 申请日: 2017-12-20
公开(公告)号: CN108122931B 公开(公告)日: 2020-08-25
发明(设计)人: 罗方祯;威廉·丹·波尔;林祥麟 申请(专利权)人: 友达光电股份有限公司
主分类号: H01L27/12 分类号: H01L27/12;H01L21/77
代理公司: 北京市立康律师事务所 11805 代理人: 梁挥;孟超
地址: 中国台湾新竹科*** 国省代码: 台湾;71
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 发明公开了一种像素结构,包含开关元件以及储存电容。开关元件具有一个漏极电极以及设置于高介电常数介电层上的源极电极,高介电常数介电层的介电常数k等于或大于8。储存电容具有第一电容电极、第二电容电极以及第三电容电极,其中钝化层设置于第二电容电极与第三电容电极之间,且高介电常数介电层亦设置于第一电容电极与第二电容电极之间。像素结构亦具有共用线,共用线连接至第一电容电极、数据线以及栅极线,安排第一电容电极、数据线以及栅极线使得其中两者在低介电常数介电层的跨越区彼此跨越,低介电常数介电层的介电常数k等于或小于5。
搜索关键词: 像素 结构 制造 方法
【主权项】:
一种像素结构,其特征在于,用于具有一基板的一显示器面板中,该像素结构包含:一开关元件,包含:一栅极电极,设置于该基板上;一第一介电层,设置于该栅极电极上;一半导体层,设置于该第一介电层上;以及一漏极电极与一源极电极,设置于该半导体层上,该第一介电层具有等于或大于8的介电常数;一储存电容,包含一第一电容电极、一第二电容电极、一第三电容电极、一钝化层以及一第二介电层,该钝化层设置于该第二电容电极与该第三电容电极之间,该第二介电层设置于该第一电容电极与该第二电容电极之间,该第二介电层具有等于或大于8的介电常数;一第一信号线,电性连接至该源极电极;一第二信号线,电性连接至该栅极电极;以及一共用线,电性连接至该储存电容,其中该第一信号线、该第二信号线以及该共用线中的两者于一跨越区彼此跨越于一第三介电层上方,该第三介电层具有等于或小于5的介电常数。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于友达光电股份有限公司,未经友达光电股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711382017.8/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top