[发明专利]刻蚀设备有效

专利信息
申请号: 201711383263.5 申请日: 2017-12-20
公开(公告)号: CN108172531B 公开(公告)日: 2021-01-15
发明(设计)人: 董磊磊 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;G06F3/041
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰
地址: 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
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摘要: 发明提供一种刻蚀设备,所述刻蚀设备包括密封罩、承载板、挡板、边框以及多个第一排气结构,所述承载板、挡板及边框位于所述密封罩内,所述边框和所述挡板设于所述承载板上,所述挡板位于所述边框的中间并与所述边框围合成两个收容部,所述两个收容部用于放置触摸面板,所述多个第一排气结构环绕所述边框设置,所述多个第一排气结构用于将密封罩中的空气排出。本发明提出的刻蚀设备包括多个第一排气结构,在干法刻蚀时,可以通过多个第一排气结构促进密封罩内的工艺气体的流动,使得工艺气体均匀分布在密封罩内,从而优化刻蚀环境、提高刻蚀均一性以及提升产品良率。
搜索关键词: 刻蚀 设备
【主权项】:
1.一种刻蚀设备,其特征在于,包括密封罩、承载板、挡板、边框以及多个第一排气结构,所述承载板、挡板及边框位于所述密封罩内,所述边框和所述挡板设于所述承载板上,所述挡板位于所述边框的中间并与所述边框围合成两个收容部,所述两个收容部用于放置触摸面板,所述多个第一排气结构环绕所述边框设置,所述多个第一排气结构用于将密封罩中的空气排出。

2.根据权利要求1所述的刻蚀设备,其特征在于,还包括第一排气管道和第二排气结构,所述第一排气管道贯穿所述挡板及所述承载板并连通所述密封罩与所述第二排气结构。

3.根据权利要求2所述的刻蚀设备,其特征在于,所述第二排气结构包括第一控制阀和第一抽气泵,所述第一控制阀设于所述第一排气管道与所述第一抽气泵之间。

4.根据权利要求3所述的刻蚀设备,其特征在于,所述第一排气管道包括水平部及与所述水平部连通的垂直部,所述垂直部贯穿所述挡板和所述承载板并连通所述密封罩与所述水平部,所述水平部连接于所述垂直部与所述第一控制阀之间。

5.根据权利要求2~4任一所述的刻蚀设备,其特征在于,所述第一排气管道的材质为耐腐蚀、绝缘材质。

6.根据权利要求3或4所述的刻蚀设备,其特征在于,所述第一排气结构对称的设置于所述承载板的相对的两侧。

7.根据权利要求6所述的刻蚀设备,其特征在于,所述第一排气结构包括第二排气管道、第二控制阀以及第二抽气泵,所述第二排气管道与所述密封罩连通,所述第二控制阀设于所述第二排气管道与所述第二抽气泵之间。

8.根据权利要求7所述的刻蚀设备,其特征在于,还包括第三抽气泵,所述第三抽气泵分别与所述第一抽气泵、第二抽气泵连接。

9.根据权利要求8所述的刻蚀设备,其特征在于,所述第一抽气泵、第二抽气泵均为分子泵。

10.根据权利要求9所述的刻蚀设备,其特征在于,所述第三抽气泵为真空泵。

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