[发明专利]一种五管PECVD设备的真空排气系统

摘要

本发明公开了一种五管PECVD设备的真空排气系统，包括真空管道组件和排气组件，真空管道组件包括五根真空管道，真空管道一端与五管PECVD设备的反应室的反应室连接管道相连，另一端与外部真空泵相连，排气组件包括五根排气管道，每根排气管道通过连接接头与反应室连接管道，排气管道上设有串联的单向阀和控制阀，单向阀用于使气体从反应室连接管道通入排气管道，控制阀用于控制排气管道的通断。本发明中当通入氮气过多导致反应室压力超过常压时，氮气通过排气管道输出，与外部的排气系统汇合后排出，当泵发生故障时，反应室内和真空管道内的气体也可以通过排气组件排出，单向阀可避免了外界空气流向反应室。

主权项

1.一种五管PECVD设备的真空排气系统，其特征在于：包括真空管道组件（100）和排气组件（200），所述真空管道组件（100）包括五根真空管道（110），所述真空管道（110）一端与五管PECVD设备的反应室的反应室连接管道（300）相连，另一端与外部真空泵相连，所述排气组件（200）包括五根排气管道（210），每根排气管道（210）通过连接接头（400）与反应室连接管道（300），所述排气管道（210）上设有串联的单向阀（500）和控制阀（600），所述单向阀（500）用于使气体从反应室连接管道（300）通入排气管道（210），所述控制阀（600）用于控制排气管道（210）的通断，所述控制阀（600）为常开气动隔膜阀。/n