[发明专利]一种版图重复单元匹配性检查方法及系统有效

专利信息
申请号: 201711394189.7 申请日: 2017-12-21
公开(公告)号: CN107967401B 公开(公告)日: 2021-07-16
发明(设计)人: 顾婷婷;储志浩;魏芳;张辰明;陈翰 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G06F30/392 分类号: G06F30/392
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 智云
地址: 201203 上海市浦*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 发明公开一种版图重复单元匹配性检查方法及系统,所述方法包括如下步骤:步骤S1,获取芯片的所有层次版图原始设计数据,并据此对版图重复单元建立数据库;步骤S2,利用步骤S1建立的数据库,对芯片版图进行版图重复单元匹配性检查,通过本发明,可实现自动查找版图中重复子单元关键信息并运算归类后建库,从而进行子单元匹配性检查,能有效提高图形匹配技术环节中子单元获取的效率,并排除人为干扰因子使子单元的一致性更高。
搜索关键词: 一种 版图 重复 单元 匹配 检查 方法 系统
【主权项】:
一种版图重复单元匹配性检查方法,包括如下步骤:步骤S1,获取芯片的所有层次版图原始设计数据,并据此对版图重复单元建立数据库;步骤S2,利用步骤S1建立的数据库,对芯片版图进行版图重复单元匹配性检查。
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