[发明专利]一种分光器以及采用该分光器的分光方法有效

专利信息
申请号: 201711396942.6 申请日: 2017-12-21
公开(公告)号: CN108061936B 公开(公告)日: 2019-07-12
发明(设计)人: 张迪;任梦昕;兀伟;高宁慧;禹宣伊;蔡卫;张心正;许京军 申请(专利权)人: 南开大学
主分类号: G02B6/125 分类号: G02B6/125
代理公司: 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 代理人: 陈超
地址: 300071*** 国省代码: 天津;12
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摘要: 发明公开了一种分光器以及采用该分光器的分光方法。该分光器包括:一透光基底;设置于该透光基底表面的多个周期性的第一微结构单元,所述第一微结构单元包括多个沿X方向平行且间隔设置的第一微纳米柱,所述多个第一微纳米柱的高度相同,且所述多个第一微纳米柱的横截面尺寸梯度变化;以及设置于该透光基底表面的多个周期性的第二微结构单元,所述第二微结构单元包括多个沿X方向平行且间隔设置的第二微纳米柱,所述多个第二微纳米柱的高度相同,所述多个第二微纳米柱的横截面尺寸梯度变化,且所述多个第一微纳米柱的梯度与所述多个第二微纳米柱的梯度相同但相反;所述多个周期性的第一微结构单元和多个周期性的第二微结构单元交替设置。
搜索关键词: 一种 分光 以及 采用 方法
【主权项】:
1.一种分光器,其包括:一透光基底,与该透光基底的表面平行且相互垂直的两个方向分别定义为X方向和Y方向;设置于该透光基底表面的多个周期性的第一微结构单元,所述第一微结构单元包括多个沿X方向平行且间隔设置的第一微纳米柱,所述多个第一微纳米柱的高度相同,且所述多个第一微纳米柱的横截面尺寸梯度变化;以及设置于该透光基底表面的多个周期性的第二微结构单元,所述第二微结构单元包括多个沿X方向平行且间隔设置的第二微纳米柱,所述多个第二微纳米柱的高度相同,所述多个第二微纳米柱的横截面尺寸梯度变化,且所述多个第一微纳米柱的横截面尺寸梯度与所述多个第二微纳米柱的横截面尺寸梯度相同但梯度相反;其特征在于,所述多个周期性的第一微结构单元和多个周期性的第二微结构单元在X方向和Y方向的至少一个方向交替设置。
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