[发明专利]一种用于硅环腐蚀的装置及方法在审
申请号: | 201711398839.5 | 申请日: | 2017-12-21 |
公开(公告)号: | CN109950175A | 公开(公告)日: | 2019-06-28 |
发明(设计)人: | 库黎明;朱秦发;李军;闫志瑞;李亚光;梦雪莹 | 申请(专利权)人: | 有研半导体材料有限公司 |
主分类号: | H01L21/67 | 分类号: | H01L21/67;H01L21/306 |
代理公司: | 北京北新智诚知识产权代理有限公司 11100 | 代理人: | 刘秀青 |
地址: | 101300 北京*** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明公开一种用于硅环腐蚀的装置及方法。装置包括腐蚀液槽、悬架、载片架、电动机、加热器;悬架具有两个悬臂并通过悬臂把手被支撑在腐蚀液槽上;两个悬臂的下部置于腐蚀液槽内,其下端分别具有挂钩;载片架具有三根连杆和两个圆盘,三根连杆的两端分别连接在两个圆盘上,其中一个圆盘连接齿轮,该齿轮通过传动轴连接电动机,三根连杆上设有承载硅环的凹槽;载片架的两端可旋转地承载在两个悬臂的挂钩上。方法为:加热腐蚀液;将硅环装在载片架上,并将载片架挂在悬臂上;将悬臂把手挂在腐蚀液槽上,使硅环没入腐蚀液,打开电动机,控制转速,调整腐蚀时间控制腐蚀去除量;清洗硅环。本发明简单易行,效率较高,大大降低了硅环腐蚀时间和成本。 | ||
搜索关键词: | 硅环 腐蚀液槽 载片架 悬臂 腐蚀 电动机 悬臂把手 腐蚀液 悬架 承载 加热器 控制转速 连接齿轮 时间控制 挂钩 传动轴 可旋转 齿轮 去除 下端 载片 加热 清洗 支撑 | ||
【主权项】:
1.一种用于硅环腐蚀的装置,其特征在于,该装置包括腐蚀液槽、悬架、载片架、电动机、加热器,其中,悬架具有两个悬臂,该两个悬臂上部分别设有悬臂把手,悬架通过该两个悬臂把手被支撑在腐蚀液槽上;两个悬臂的下部置于腐蚀液槽内,其下端分别具有挂钩;载片架具有三根连杆和两个圆盘,三根连杆的两端分别连接在两个圆盘上,其中一个圆盘连接齿轮,该齿轮通过传动轴连接电动机;三根连杆上设有用于承载硅环的凹槽;载片架的两端可旋转地承载在两个悬臂的挂钩上,加热器安装在腐蚀液槽内用于对腐蚀液加热。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
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