[发明专利]分布式回馈激光结构与制作方法有效
| 申请号： | 201711407716.3 | 申请日： | 2017-12-22 |
| 公开（公告）号： | CN109672083B | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 潘建宏;吴承儒 | 申请（专利权）人： | 光环科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01S5/12 | 分类号： | H01S5/12;H01S5/20;H01S5/22 |
| 代理公司： | 北京科龙寰宇知识产权代理有限责任公司 11139 | 代理人： | 孙皓晨 |
| 地址： | 中国台*** | 国省代码： | 台湾;71 |
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| 摘要： | 一种分布式回馈激光结构与制作方法，通过在分布式回馈激光的光栅层中设置一相位差光栅结构及一无光栅区，且在分布式回馈激光的两侧面都涂布抗反射层的方式提升分布式回馈激光结构的SMSR合格率，且同时兼具有良好斜率效应值等优点。该光栅层在该水平方向上被该相位差光栅结构区分为一第一光栅区及一第二光栅区，且该分布式回馈激光的出光面邻靠于该第二光栅区。该相位差光栅结构可提供一相位差距离，使得位于该第一光栅区内的多个微光栅结构与位于该第二光栅区内的多个微光栅结构两者间具有一相位差。并且，该无光栅区位于该第二光栅区内，且在该无光栅区中并未包含任何该微光栅结构，且该无光栅区不会改变该第二光栅区内的多个微光栅结构的相位。 | ||
| 搜索关键词： | 分布式 回馈 激光 结构 制作方法 | ||
【主权项】：
1.一种分布式回馈激光结构，能够产生具有一激光波长的激光，其特征在于，该分布式回馈激光结构包括：一半导体堆栈结构，在接受一电流时产生具有该激光波长的该激光，并使该激光自该半导体堆栈结构的一出光面射出，且该出光面位于该半导体堆栈结构的一侧面；一光栅层，位于该半导体堆栈结构上，该光栅层具有沿着一水平方向排列的多个微光栅结构，该多个微光栅结构的间隔等于该激光波长的二分之一；一脊部结构，位于该光栅层的上方；其中，该光栅层在该水平方向上被区分为一第一光栅区、一相位差光栅结构、一第二光栅区以及一无光栅区；其中，该出光面邻靠于该第二光栅区；该相位差光栅结构位于该第一光栅区与该第二光栅区的相邻接处，且该相位差光栅结构的宽度能够提供一相位差距离，使得位于该第一光栅区内的微光栅结构与位于该第二光栅区内的微光栅结构两者间具有一相位差；并且，该无光栅区位于该第二光栅区内，且该无光栅区中不包含该微光栅结构。
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