[发明专利]一种化学机械抛光垫的修整设备的结构及其制造方法

摘要

本发明涉及一种化学机械抛光垫的修整设备的结构及其制造方法。这套设备包括带螺纹通孔的修整盘底座、带不同直径或密度磨粒的基柱、水平测定盘、连杆和悬臂。修整盘表面由四个研磨单元构成，每个研磨单元又由多个基柱构成，每个基柱上面有磨粒。带磨粒的基柱可以旋入底座的通孔，并可调节露出磨料最高点的高低程度。磨粒由电化学方法固定在基柱表面。整个修整盘的磨粒高度可由一个水平测定盘测定后，才可应用到抛光垫的修整操作。此修整盘可以通过不同的基柱的组合，调节盘中磨粒的密度、磨粒的直径的分布，控制修整盘对抛光垫的抛光速率与磨损程度，可以有效地修整抛光垫。

主权项

1.一种化学机械抛光垫的修整设备的结构，其特征在于它包括抛光垫、机械传动机构、抛光头、修整盘支架、抛光液喷头、抛光液罐和电源，修整盘安装在修整盘支架上，修整盘支架包括悬臂、连杆、修整盘联接器，修整盘联接器通过连杆连接悬臂，抛光头连接机械传动机构，抛光头、抛光液喷头和修整盘联接器设置在抛光垫上方，修整盘的中心与抛光头的中心在同一个圆周上，圆周的圆心与抛光垫的圆心重合，抛光头带动抛光垫同时运动，抛光液喷头通过电动阀门连接抛光液罐，修整盘包括底座和基柱，底座带有与基柱直径相同的基柱通孔，基柱旋入底座的带螺纹的基柱通孔内，电动阀门、机械传动机构连接电源。