[发明专利]气体供给装置及其制造方法以及等离子体处理装置有效
| 申请号： | 201711417582.3 | 申请日： | 2017-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN108242381B | 公开（公告）日： | 2020-01-03 |
| 发明（设计）人： | 佐佐木芳彦;南雅人 | 申请（专利权）人： | 东京毅力科创株式会社 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 11322 北京尚诚知识产权代理有限公司 | 代理人： | 龙淳 |
| 地址： | 日本*** | 国省代码： | 日本;JP |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种在包括形成有多个气体排出口的电极部件的等离子体处理用的气体供给装置中，实现使形成于气体排出口的喷镀膜的膜厚的均匀化的技术。在用于等离子体处理的具有形成有多个气体流路(41)的电极板(32B)的气体供给装置中，以在气体流路41与气体排出口(40)的边界部(Pa)形成角部的方式向外侧弯折，从位于角部的外侧的内周面至下表面(300)形成为弯曲面。因此，在向气体排出口(40)吹附喷镀材料(50)时吹附喷镀材料(50)的方向与气体排出口(40)的内周面所成的角度变大，能够防止气体排出口(40)的上游侧的边界附近的薄膜化。 | ||
| 搜索关键词： | 气体排出口 气体供给装置 等离子体处理 喷镀材料 气体流路 内周面 角部 等离子体处理装置 电极部件 薄膜化 边界部 电极板 均匀化 喷镀膜 弯曲面 下表面 膜厚 弯折 上游 制造 | ||
【主权项】：
1.一种气体供给装置，其特征在于，包括：/n用于产生等离子体的电极部件；/n在所述电极部件上以向该电极部件的一个面延伸的方式形成的多个气体流路；/n与所述气体流路的下游端相连地形成，且孔径随着向所述一个面去而扩大的气体排出口；和/n在所述气体排出口的表面由喷镀膜形成的保护膜，/n在所述气体流路与所述气体排出口的边界，内周面向外侧弯折而形成角部，并且从与所述角部相比位于外侧的内周面的部位至所述电极部件的一个面一侧的表面形成为弯曲面，在沿所述气体流路的轴线的截面上，从所述角部至所述弯曲面的内端之间为直线部分，/n至少所述弯曲面和所述直线部分由所述保护膜覆盖。/n
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东京毅力科创株式会社，未经东京毅力科创株式会社许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711417582.3/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种均匀抽真空的双工位真空处理器
- 下一篇：等离子体处理装置
