[发明专利]直立交错式花瓣状二硫化锡纳米片及其制备方法有效
申请号: | 201711420397.X | 申请日: | 2017-12-25 |
公开(公告)号: | CN109956495B | 公开(公告)日: | 2020-12-22 |
发明(设计)人: | 唐成春;贾宪生;李俊杰;顾长志;金爱子 | 申请(专利权)人: | 中国科学院物理研究所 |
主分类号: | C01G19/00 | 分类号: | C01G19/00 |
代理公司: | 北京泛华伟业知识产权代理有限公司 11280 | 代理人: | 郭广迅 |
地址: | 100190 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | 本发明提供了一种直立交错式花瓣状二硫化锡纳米片的制备方法,所述方法使用四控温区水平管式炉,所述方法包括以下步骤:1)第一控温区放置硫,第二控温区放置碘化亚锡作为反应源,然后在第四控温区放置衬底;2)对所述四控温区水平管式炉抽真空至0.1Pa以下,通入惰性气体作为保护气和载气;3)分别对第二、三、四控温区加热;4)将第一控温区加热至90℃‑200℃,并保温1‑3小时;5)将水平管式炉降温至室温,从第四控温区中取出衬底,得到直立交错式花瓣状二硫化锡纳米片。本发明提供的方法为一步化学气相沉积法,该方法操作简单,制备过程中加入过量硫,从而不需要进行进一步的硫化退火处理,即可得到高质量、大面积的二硫化锡单晶纳米片。 | ||
搜索关键词: | 直立 交错 花瓣 硫化 纳米 及其 制备 方法 | ||
【主权项】:
1.一种直立交错式花瓣状二硫化锡纳米片的制备方法,所述方法使用四控温区水平管式炉,所述水平管式炉包括第一控温区、第二控温区、第三控温区和第四控温区,所述方法包括以下步骤:1)在所述四控温区水平管式炉的第一控温区放置硫,第二控温区放置锡源作为反应源,然后在第四控温区放置衬底用于沉积二硫化锡纳米片;2)对所述四控温区水平管式炉抽真空至0.1Pa以下,通入惰性气体作为保护气和载气,从第一控温区向第四控温区吹扫;3)分别对第二、三、四控温区加热;其中,将第二控温区加热至200‑400℃,并保温1‑3小时;将第三控温区加热至600℃‑800℃,并保温1‑3小时;将第四控温区加热到300℃‑500℃,并保温1‑3小时;4)将第一控温区加热至90℃‑200℃,并保温1‑3小时;5)将四控温区水平管式炉降温至室温,从第四控温区中取出衬底,得到直立交错式花瓣状二硫化锡纳米片。
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