[发明专利]图像传感器及其形成方法在审

专利信息
申请号: 201711422876.5 申请日: 2017-12-25
公开(公告)号: CN107946336A 公开(公告)日: 2018-04-20
发明(设计)人: 孟俊生;李志伟;黄仁德;王欢 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司11227 代理人: 徐文欣,吴敏
地址: 223302 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要: 一种图形传感器及其形成方法,其中,所述图形传感器的形成方法包括提供初始基底;去除部分初始基底,形成基底,所述基底顶部具有若干第一开口,所述第一开口的顶部尺寸大于底部尺寸,且所述第一开口顶部所在的平面与第一开口的侧壁构成锐角;在所述基底顶部以及第一开口内形成隔离层,所述隔离层充满第一开口;在所述隔离层的顶部表面形成滤色镜和位于滤色镜表面的透镜。所述方法基底对光子的吸收量较多,所形成的图形传感器对光的敏感度较高。
搜索关键词: 图像传感器 及其 形成 方法
【主权项】:
一种图像传感器的形成方法,其特征在于,包括:提供初始基底;去除部分初始基底,形成基底,所述基底顶部具有若干第一开口,所述第一开口的顶部尺寸大于底部尺寸,且所述第一开口顶部所在的平面与第一开口的侧壁构成锐角;在所述基底顶部以及第一开口内形成隔离层,所述隔离层充满第一开口;在所述隔离层的顶部表面形成滤色镜和位于滤色镜表面的透镜。
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