[发明专利]利用后端制程实现的器件及其制造方法在审

专利信息
申请号: 201711425961.7 申请日: 2017-12-26
公开(公告)号: CN108123036A 公开(公告)日: 2018-06-05
发明(设计)人: 杨鸣鹤;金子贵昭;黄晓橹 申请(专利权)人: 德淮半导体有限公司
主分类号: H01L45/00 分类号: H01L45/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 刘倜
地址: 223300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 本公开涉及在后端制程中实现的器件及其制造方法。器件可以包括:导电层(101);在导电层的一部分上的第一材料层(113),第一材料层具有底部部分和在底部部分的两侧从底部部分向上延伸的侧壁部分;在第二材料层之上的第二材料层(115);以及电极,第二材料层在第一材料层和电极之间。第一材料层和第二材料层各自由金属氧化物形成,并且包含相同的金属元素。第一材料层和第二材料层中的一个是氧缺乏层,而另一个是富氧层。器件被配置为能够通过在导电层和电极之间施加预定的电压差而改变该器件中导电层和电极之间的导通状态。
搜索关键词: 第二材料层 第一材料 电极 导电层 制程 导通状态 金属元素 向上延伸 自由金属 电压差 富氧层 氧缺乏 氧化物 侧壁 制造 施加 配置
【主权项】:
一种利用后端制程实现的器件,其特征在于,包括:导电层(101);在所述导电层的一部分上的第一材料层(113),所述第一材料层具有底部部分和在底部部分的两侧从底部部分向上延伸的侧壁部分;在所述第二材料层之上的第二材料层(115);以及电极,所述第二材料层在所述第一材料层和所述电极之间,其中,所述第一材料层和所述第二材料层各自由金属氧化物形成,并且包含相同的金属元素,其中,所述第一材料层和所述第二材料层中的一个是氧缺乏层,而另一个是富氧层,并且其中,所述器件被配置为能够通过在所述导电层和所述电极之间施加预定的电压差而改变所述器件中所述导电层和所述电极之间的导通状态。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于德淮半导体有限公司,未经德淮半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711425961.7/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top