[发明专利]一种X射线强度准无损二维成像装置有效
| 申请号： | 201711426316.7 | 申请日： | 2017-12-26 |
| 公开（公告）号： | CN107870346B | 公开（公告）日： | 2023-09-19 |
| 发明（设计）人： | 任宽;江少恩;曹柱荣;姚立;谢旭飞;余波;陈进文;王哲斌;王峰;胡智民;刘慎业;徐涛;赵阳;刘伟;杨志文;董建军;韦敏习;马波;黄天暄;张继彦;丁永坤 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院激光聚变研究中心 |
| 主分类号： | G01T1/29 | 分类号： | G01T1/29;G01T1/16 |
| 代理公司： | 中国工程物理研究院专利中心 51210 | 代理人： | 翟长明;韩志英 |
| 地址： | 621999 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种X射线强度准无损二维成像装置，所述的成像装置适用于50eV~80keV的X射线，包括同轴心设置的可调光阑、辅助瞄准装置、X射线成像器件、支撑与调节机构、屏蔽筒与多重X射线成像板。经辅助瞄准装置对靶进行瞄准后，靶发出50eV~80keV的X射线，经X射线成像器件成像到多重X射线成像板上，通过对多重X射线成像板上的多重像进行数据提取、转换与叠加处理，即可还原强度准无损图像。本发明的成像装置能够实现50eV~80keV的X射线强度准无损二维成像，将获得的X光像的信息量提升0%~85%，具有广阔且重要应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 射线 强度 无损 二维 成像 装置 | ||
【主权项】：
一种X射线强度准无损二维成像装置，其特征在于：所述的成像装置适用于50eV~80keV 的X射线，包括同轴心设置的可调光阑（2）、辅助瞄准装置（3）、X射线成像器件（4）、支撑与调节机构（5）、屏蔽筒（6）和多重X射线成像板（7）；所述的支撑与调节机构（5）为水平放置的圆筒，辅助瞄准装置（3）卡在圆筒的靠前位置并面向靶（1），X射线成像器件（4）位于辅助瞄准装置（3）中心；所述的可调光阑（2）为圆环形并位于辅助瞄准装置（3）的前方，与支撑与调节机构（5）的圆筒前端面配装；所述的支撑与调节机构（5）通过位于圆筒后部的调节器调节辅助瞄准装置（3）和X射线成像器件（4）的光学指向；所述的屏蔽筒（6）的前端与支撑与调节机构（5）密封连接，后端与多重X射线成像板（7）密封连接，屏蔽筒（6）的中间部分从调节机构（5）到多重X射线成像板（7）之间圆滑过渡；所述的成像装置的工作过程如下：靶（1）发出的可见光在可调光阑（2）打开状态下，通过辅助瞄准装置（3）和支撑与调节机构（5）实现辅助X射线成像器件（4）对靶（1）的瞄准；靶（1）发出的X射线在可调光阑（2）关闭状态下，经过X射线成像器件（4）成像到多重X射线成像板（7）上；通过计算机对多重X射线成像板（7）上的多重X光像进行数据提取、转换和叠加处理，获得强度准无损图像。
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