[发明专利]辐射检查系统和辐射检查方法在审

专利信息
申请号: 201711429492.6 申请日: 2017-12-26
公开(公告)号: CN107966460A 公开(公告)日: 2018-04-27
发明(设计)人: 杨祎罡;王东宇;于昊;宋全伟;李荐民;王伟珍;李玉兰;宗春光;张勤俭;曾鸣;陈志强;李元景;张丽 申请(专利权)人: 清华大学;同方威视技术股份有限公司
主分类号: G01N23/00 分类号: G01N23/00;G01V5/00
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所11038 代理人: 艾春慧
地址: 10008*** 国省代码: 北京;11
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摘要: 发明公开了一种辐射检查系统和辐射检查方法。辐射检查系统包括辐射源和射束调制装置,射束调制装置包括设置于辐射源的射束出射侧的第一准直结构和设置于第一准直结构的射束出射侧的第二准直结构,第二准直结构与第一准直结构相对可动地设置以改变第一准直结构的第一准直口和第二准直结构的第二准直口的相对位置,使射束调制装置在第一工作状态和第二工作状态之间切换,其中,在第一工作状态,射束调制装置将初始射束调制为扇形束,在第二工作状态,射束调制装置将初始射束调制为位置可变的笔形束。本发明的辐射检查系统和辐射检查方法可以兼顾检查效率和检查精度。
搜索关键词: 辐射 检查 系统 方法
【主权项】:
一种辐射检查系统(100),包括用于发射初始射束(N1)的辐射源和用于将所述初始射束(N1)调制为扫描射束的射束调制装置,其特征在于,所述射束调制装置包括设置于所述辐射源的射束出射侧的第一准直结构(114)和设置于所述第一准直结构(114)的射束出射侧的第二准直结构(130),所述第一准直结构(114)包括第一准直口(1141),所述第二准直结构(130)包括第二准直口(131),所述第二准直结构(130)与所述第一准直结构(114)相对可动地设置以改变所述第一准直口(1141)和所述第二准直口(131)的相对位置,使所述射束调制装置在第一工作状态和第二工作状态之间切换,其中,在所述第一工作状态,所述射束调制装置将所述初始射束(N1)调制为扇形束(N2),在所述第二工作状态,所述射束调制装置将所述初始射束(N1)调制为位置可变的笔形束(N3)。
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