[发明专利]成膜装置、成膜方法以及隔热构件

摘要

成膜装置、成膜方法以及隔热构件。当对分层地保持于基板保持器具的被处理基板进行成膜处理时，对被保持在基板保持器具的上下部侧或下部侧的被处理基板的面内膜厚分布进行调整，提高被处理基板间的膜厚均匀性。装置具备：气体供给部，用于向纵型反应容器内供给成膜气体；隔热构件，在基板保持器具中被设置为在比被处理基板的配置区域靠上方或靠下方的位置处与该配置区域重叠，用于在反应容器内对配置区域与比该配置区域靠上方的上方区域进行隔热或者对配置区域与比该配置区域靠下方的下方区域进行隔热；以及贯通孔，在该隔热构件中被设置在与该被处理基板的中心部重叠的位置，以对被保持于隔热构件的附近的被处理基板的面内的温度分布进行调整。

主权项

1.一种成膜装置，在纵型的反应容器内以在基板保持器具上棚架状地保持有多个被处理基板的状态利用加热部进行加热，从而对所述被处理基板进行成膜处理，该成膜装置的特征在于，具备：排气部，其进行排气以将所述反应容器内设为真空环境；气体供给部，其用于向被设为真空环境的所述反应容器内供给成膜气体；第一隔热构件，其在所述基板保持器具中被设置为在比所述多个被处理基板的配置区域靠上方或靠下方的位置处且与该配置区域重叠，用于在所述反应容器内对所述配置区域与比该配置区域靠上方的上方区域进行隔热或者对所述配置区域与比该配置区域靠下方的下方区域进行隔热；以及贯通孔，其在该第一隔热构件中被设置在与该被处理基板的中心部重叠的位置，以对被保持在所述第一隔热构件的附近的所述被处理基板的面内的温度分布进行调整。