[发明专利]柔性量子点彩膜的制作方法

摘要

本发明公开一种柔性量子点彩膜的制作方法，通过在具有图形化掩膜的母版上依次沉积黑矩阵、R、G、B彩膜、水氧阻隔层以及柔性衬底，然后除去母版和图形化掩膜后，黑矩阵和R、G、B彩膜围成与图形化掩膜形状相同的图形化的若干第三沉积坑，再于多个第三积坑内沉积发光颜色与R、G、B彩膜颜色一一对应的量子点材料，形成图形化的量子点光转换层，即得柔性量子点彩膜。该方法制备得到的柔性量子点彩膜的性能可以达到现有水平，且制作方法不需要任何黄光制程，相对于传统的量子点彩膜的制作方法，减少了光刻工艺，简化了柔性量子点彩膜的制作工艺，降低了成本。

主权项

1.一种柔性量子点彩膜的制作方法，其特征在于，包括以下步骤：提供母版，所述母版上设有多个图形化掩膜，多个所述图形化掩膜与所述母版构成第一沉积坑；于所述第一沉积坑内沉积黑矩阵，所述黑矩阵露出于所述图形化掩膜，以使所述黑矩阵和多个所述图形化掩膜构成多个第二沉积坑；于所述第二沉积坑内沉积彩膜，所述第二沉积坑内的彩膜为红色彩膜、绿色彩膜或蓝色彩膜，所述红色彩膜、所述绿色彩膜或所述蓝色彩膜的数量至少为一个；且所述彩膜的高度小于或等于所述黑矩阵的高度，以使多个所述彩膜相互间隔开；于所述彩膜和所述黑矩阵上沉积水氧阻隔层；于所述水氧阻隔层上沉积柔性衬底；除去所述母版和所述图形化掩膜，所述彩膜和所述黑矩阵形成与所述图形化掩膜形状匹配的第三沉积坑；于所述第三沉积坑内沉积发光颜色与所述第三沉积坑内的彩膜的颜色对应的量子点材料，即得柔性量子点彩膜。