[发明专利]真空处理装置的运转方法有效
申请号: | 201711439328.3 | 申请日: | 2014-08-19 |
公开(公告)号: | CN108155082B | 公开(公告)日: | 2020-05-19 |
发明(设计)人: | 佐藤浩平;牧野昭孝;田中一海;属优作 | 申请(专利权)人: | 株式会社日立高新技术 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01L21/67 |
代理公司: | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人: | 刘文海 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明提供一种真空处理装置,其在被处理物大口径化的情况下也能够使处理的均匀性良好,并且高效地进行稳态/非稳态维护。在具有真空搬运室的真空处理装置中,具备:具有圆筒形状的下部容器(250);试料台单元,其具有试料台(241)以及具备相对于试料台的中心轴线配置为轴对称的支承梁的环状的试料台基座(242);具有圆筒形状的上部容器(230);以及移动机构(210),其固定于试料台基座(242),且使试料台单元能够在上下方向以及水平方向上移动。 | ||
搜索关键词: | 真空 处理 装置 运转 方法 | ||
【主权项】:
一种真空处理装置的运转方法,所述真空处理装置具有至少一个真空搬运室和多个真空处理室,该真空处理室以在该一个真空搬运室与一个真空处理室之间夹着内部配置有被处理物的搬运路径的阀室的方式与所述一个真空搬运室连结,其中,所述一个真空处理室具备:具有排气开口的基板;下部容器,其配置在所述基板上,且水平剖面的内壁呈圆形;试料台单元,其配置在所述下部容器之上,且具有载置被处理物的试料台、支承所述试料台且相对于所述试料台的中心轴呈轴对称地配置的支承梁、以及在该支承梁的外周侧与该支承梁连结的环状的试料台基座,该环状的试料台基座构成将所述真空处理室的内部与外部的大气压的空间气密地划分的隔壁;上部容器,其配置在所述试料台基座之上,且在与该试料台基座之间构成将所述真空处理室的内部与外部的大气压的空间划分的隔壁,并且,在其外侧壁具有在与所述真空搬运室之间搬运所述被处理物的第一开口部,该上部容器的水平剖面的内壁呈圆形;以及密封构件,其夹在所述基板、所述下部容器、具有环状的试料台基座以及上部容器各自之间而配置,且对所述真空处理室的内部与外部之间进行气密地封固,所述真空处理装置在所述一个真空处理室与邻接的其他真空处理室之间、以及邻接于所述真空处理装置的其他真空处理装置与该一个真空处理室之间配置有作业者用的作业空间,所述真空处理装置具备移动单元,该移动单元在所述一个真空处理室和所述邻接的其他真空处理室之间的所述作业空间与所述环状的试料台基座之间、且在所述试料台基座的外侧相对于所述阀室远离该试料台基座的中心的位置处与试料台基座连接地配置,并且该移动单元能够进行使具有上下方向的轴且包含该试料台基座的所述试料台单元相对于所述下部容器沿着所述轴在上下方向上移动的上下动作、以及使通过该上下动作而向所述下部容器的上方分离的所述试料台单元沿水平方向移动到该下部容器的上方的区域的外侧且远离所述阀室的位置的水平动作,利用所述移动单元,使所述试料台单元在上下动作中从所述下部容器向上方分离,然后在水平动作中使该试料台单元移动到从上方观察时的所述作业空间,从而能够同时进行包含比该试料台单元靠下方配置的所述基板在内的所述一个真空处理室的维护和所述试料台单元的维护。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于株式会社日立高新技术,未经株式会社日立高新技术许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711439328.3/,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:基底处理设备
- 下一篇:一种基于H3+质子转移反应的离子化方法