[发明专利]一种化学机械抛光液在审
| 申请号： | 201711439627.7 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109971358A | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 潘依君;荆建芬;张建;姚颖;宋凯;蔡鑫元;杨俊雅;卞鹏程;李恒 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;H01L21/306 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种化学机械抛光液，所述抛光液包括研磨颗粒，一种水溶性高分子聚合物和一种非离子表面活性剂，该非离子表面活性剂为聚乙烯吡咯烷酮。本发明的抛光液具有优良的稳定性，并且可以在碱性条件下显著改变多晶硅的去除速率，从而实现调节多晶硅与二氧化硅的选择比，提高多晶硅的平坦化效率。 | ||
| 搜索关键词： | 多晶硅 非离子表面活性剂 化学机械抛光液 抛光液 水溶性高分子聚合物 聚乙烯吡咯烷酮 二氧化硅 碱性条件 研磨颗粒 平坦化 选择比 去除 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，所述化学机械抛光液含有二氧化硅研磨颗粒、一种水溶性高分子聚合物和一种非离子表面活性剂。
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