[发明专利]一种化学机械抛光液有效
| 申请号： | 201711439628.1 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109971359B | 公开（公告）日： | 2021-12-07 |
| 发明（设计）人： | 周文婷;荆建芬 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | C09G1/02 | 分类号： | C09G1/02;C23F3/06 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供一种化学机械抛光液，其包括，二氧化硅，至少一种增速剂，唑类化合物及其衍生物。本发明大大提高SiN的抛光速度且有较低的TEOS抛光速度，同时实现降低铜的抛光速度，能够在较短的时间内对混合键合表面的碟形凹陷进行修复。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 化学 机械抛光 | ||
【主权项】：
1.一种化学机械抛光液，其特征在于，包括，二氧化硅，至少一种增速剂，及唑类化合物。所速的增速剂为含一个或多个羧基基团的吡啶化合物、哌啶化合物、吡咯烷化合物或吡咯化合物。
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