[发明专利]一种清洗液在审
| 申请号： | 201711439631.3 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN109976110A | 公开（公告）日： | 2019-07-05 |
| 发明（设计）人： | 何春阳;赵鹏;刘兵;孙广胜 | 申请（专利权）人： | 安集微电子（上海）有限公司 |
| 主分类号： | G03F7/42 | 分类号： | G03F7/42 |
| 代理公司： | 北京大成律师事务所 11352 | 代理人： | 李佳铭;沈汶波 |
| 地址： | 201203 上海市浦东新区张江高科技园区*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明涉及了一种清洗液，其含有：氟化物、有机胺、烷基多元醇、金属抗蚀剂及水。本发明的清洗液清洗能力强，可有效去除半导体制程过程中等离子刻蚀残留物，尤其是去除铜马士革工艺灰化后残留物，同时能够有效的保护低介电常数low‑k材料(BD1，BD2)。本发明适用于批量浸泡式、批量旋转喷雾式清洗方式，尤其适用于高转速单片旋转式的清洗方式，具有较大操作窗口，在半导体晶片清洗等微电子领域具有良好的应用前景。 | ||
| 搜索关键词： | 清洗液 去除 清洗 等离子刻蚀残留物 半导体晶片清洗 半导体制程 单片旋转式 低介电常数 金属抗蚀剂 烷基多元醇 微电子领域 操作窗口 清洗能力 旋转喷雾 氟化物 高转速 浸泡式 有机胺 灰化 应用 | ||
【主权项】：
1.一种清洗液，其特征在于，包括氟化物，有机胺，烷基多元醇，金属抗蚀剂以及水,所述清洗液中不含有羟胺及氧化剂。
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