[发明专利]一种真空溅射设备及其真空大气交换装置在审
| 申请号： | 201711444816.3 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN108193189A | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | 黄秋平 | 申请（专利权）人： | 深圳市华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/56 | 分类号： | C23C14/56;C23C14/34 |
| 代理公司： | 深圳汇智容达专利商标事务所(普通合伙) 44238 | 代理人： | 孙威;潘中毅 |
| 地址： | 518000 广东*** | 国省代码： | 广东;44 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种用于真空溅射设备的真空大气交换装置，真空大气交换装置中装设基板传送轨道，真空大气交换装置中设有沿基板传送轨道的传送路径而设的用以对基板传送轨道上的成膜基板进行快速冷却的冷却装置。本发明还公开了一种真空溅射设备。实施本发明的真空溅射设备及其真空大气交换装置，能够对沉积完成后的基板进行高效快速冷却，解决温度过高及不均匀导致的膜质问题。 | ||
| 搜索关键词： | 交换装置 真空大气 真空溅射设备 基板传送 成膜基板 传送轨道 传送路径 高效快速 快速冷却 冷却装置 温度过高 不均匀 对基板 轨道 基板 装设 沉积 冷却 | ||
【主权项】：
1.一种用于真空溅射设备的真空大气交换装置，其特征在于，所述真空大气交换装置中装设基板传送轨道，所述真空大气交换装置中设有沿所述基板传送轨道的传送路径而设的用以对所述基板传送轨道上的成膜基板进行快速冷却的冷却装置。
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