[发明专利]对腔室部件进行涂层的方法和用于处理腔室的腔室部件

摘要

本发明涉及一种方法以及腔室部件。一种用于半导体工艺腔室部件的表面的多组分涂层组成物包括使用原子层沉积工艺涂布到该半导体工艺腔室部件的该表面上的氧化钇或氟化钇的至少一个第一膜层以及使用原子层沉积工艺涂布到该半导体工艺腔室部件的该表面上的额外氧化物或额外氟化物的至少一个第二膜层，其中该多组分涂层组成物选自由YOxFy、YAlxOy、YZrxOy和YZrxAlyOz组成的群组。

主权项

1.一种方法，包括：使用第一重复次数的原子层沉积工艺将氧化钇的第一膜层沉积到用于处理腔室的腔室部件的表面上；使用第二重复次数的所述原子层沉积工艺将氧化锆的第二膜层沉积到所述腔室部件的所述表面上；使包括所述第一膜层和所述第二膜层的所述腔室部件退火从而使所述第一膜层和所述第二膜层互相扩散并形成包含互相扩散的YZrxOy固态相的涂层，其中x和y具有基于用于沉积所述第一膜层的所述第一重复次数的所述原子层沉积工艺和用于沉积所述第二膜层的所述第二重复次数的所述原子层沉积工艺的值。