[发明专利]一种刻蚀液及其制备方法和应用有效
| 申请号： | 201711449853.3 | 申请日： | 2017-12-27 |
| 公开（公告）号： | CN108060420B | 公开（公告）日： | 2020-09-04 |
| 发明（设计）人： | 王溯;季峥 | 申请（专利权）人： | 上海新阳半导体材料股份有限公司 |
| 主分类号： | C23F1/18 | 分类号： | C23F1/18 |
| 代理公司： | 上海弼兴律师事务所 31283 | 代理人： | 薛琦;袁红 |
| 地址： | 201616 *** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种刻蚀液及其制备方法和应用。所述刻蚀液由下述原料制得，所述原料包含下列组分：过氧化氢、无机酸、不饱和有机物、金属螯合剂、过氧化氢稳定剂和水；所述的不饱和有机物包括不饱和有机酸和/或不饱和醇；其中，所述不饱和有机物的质量百分含量为0.3‑2.5％。所述刻蚀液的制备方法为将所述原料混合，即可。本发明所述的刻蚀液可用于半导体设备、印刷基板和IC卡的图案加工。本发明的刻蚀液其各组分具有各向异性，其能使得底部铜的刻蚀速率大于上部铜的刻蚀速率，有效地避免了过渡刻蚀的现象产生，因而解决了底切问题，具有较好的工业应用价值。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 刻蚀 及其 制备 方法 应用 | ||
【主权项】：
1.一种刻蚀液，其特征在于，其由下述原料制得，所述原料包含下列组分：过氧化氢、无机酸、不饱和有机物、金属螯合剂、过氧化氢稳定剂和水；所述的不饱和有机物包括不饱和有机酸和/或不饱和醇；其中，所述不饱和有机物的质量百分含量为0.3-2.5％。
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