[发明专利]平面雪崩光电二极管在审

专利信息
申请号: 201711451881.9 申请日: 2013-05-17
公开(公告)号: CN108075010A 公开(公告)日: 2018-05-25
发明(设计)人: 巴里·莱维尼 申请(专利权)人: 派克米瑞斯有限责任公司
主分类号: H01L31/107 分类号: H01L31/107
代理公司: 中国国际贸易促进委员会专利商标事务所 11038 代理人: 申发振
地址: 美国*** 国省代码: 美国;US
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要: 一种平面雪崩光电二极管,包括:第一半导体层、倍增层、电荷控制层、第二半导体层、梯度吸收层、阻挡层以及第二接触层。倍增层位于电荷控制层和第一半导体层之间。电荷控制层位于第二半导体层和倍增层之间。第二半导体层位于电荷控制层和梯度吸收层之间。梯度吸收层位于第二半导体层和阻挡层之间。
搜索关键词: 半导体层 电荷控制层 倍增层 吸收层 平面雪崩光电二极管 阻挡层 接触层
【主权项】:
1.一种雪崩光电二极管,包括:第一半导体层;与所述第一半导体层相邻的倍增层;与所述倍增层相邻、与所述第一半导体层相对的电荷控制层;第二半导体层,所述第二半导体层是低掺杂的或非故意掺杂的,所述第二半导体层与所述电荷控制层相邻,其中所述第二半导体层在所述电荷控制层的与所述倍增层相对的一侧;梯度吸收层,与所述第二半导体层相邻,其中所述梯度吸收层在所述第二半导体层的与所述第一半导体层相对的一侧,所述梯度吸收层是掺杂的并且与所述第二半导体层直接接触;以及阻挡层,定位为与所述梯度吸收层相邻,其中所述阻挡层在所述梯度吸收层的与所述第二半导体层相对的一侧,所述阻挡层与所述梯度吸收层直接接触,并且其中所述梯度吸收层被刻蚀以在与所述梯度吸收层直接接触的所述第二半导体层的顶部上限定小面积吸收区域,并且所述梯度吸收层的截面宽度小于所述电荷控制层和倍增层的截面宽度,其中所述电荷控制层和倍增层的截面宽度基本相等。
下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于派克米瑞斯有限责任公司,未经派克米瑞斯有限责任公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/patent/201711451881.9/,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top