[发明专利]瞬间电压抑制装置有效
申请号: | 201711454044.1 | 申请日: | 2017-12-28 |
公开(公告)号: | CN109817616B | 公开(公告)日: | 2020-10-16 |
发明(设计)人: | 阿南德;陈柏安 | 申请(专利权)人: | 新唐科技股份有限公司 |
主分类号: | H01L27/08 | 分类号: | H01L27/08;H01L29/06;H01L21/82 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 贾磊;王涛 |
地址: | 中国台湾新竹*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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摘要: | 本发明实施例提供一种瞬间电压抑制装置。上述瞬间电压抑制装置包括基板、设置于基板上的第一导电型态的第一半导体层、设置于第一半导体层上的第二导电型态的第二半导体层、设置于第二半导体层中的第一导电型态的第一阱及第二阱。第二阱与第一阱相邻设置但彼此分离。上述瞬间电压抑制装置亦包括设置于第一阱与第二阱之间且延伸进入第一阱与第二阱中的第二导电型态的第一重掺杂区、设置于第一重掺杂区下的第一阱中的第一导电型态的第二重掺杂区以及设置于第一重掺杂区下的第二阱中的第一导电型态的第三重掺杂区。本发明可降低瞬间电压抑制装置的骤回电压,进一步提高二次崩溃电流。 | ||
搜索关键词: | 瞬间 电压 抑制 装置 | ||
【主权项】:
1.一种瞬间电压抑制装置,其特征在于,包括:一基板;一第一半导体层,具有一第一导电型态且设置于该基板上;一第二半导体层,具有一第二导电型态且设置于该第一半导体层上,其中该第二导电型态相反于该第一导电型态;一第一阱,具有该第一导电型态且设置于该第二半导体层中;一第二阱,具有该第一导电型态且设置于该第二半导体层中,其中该第二阱与该第一阱相邻设置但彼此分离;一第一重掺杂区,具有该第二导电型态且设置于该第一阱与该第二阱之间且延伸进入相邻两侧的该第一阱与该第二阱中,其中该第一重掺杂区的底部高于该第一阱与该第二阱的底部;一第二重掺杂区,具有该第一导电型态且设置于该第一重掺杂区下的该第一阱中;以及一第三重掺杂区,具有该第一导电型态且设置于该第一重掺杂区下的该第二阱中。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的
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