[发明专利]光罩及图案化方法在审
申请号: | 201711456939.9 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN108153106A | 公开(公告)日: | 2018-06-12 |
发明(设计)人: | 尹易彪 | 申请(专利权)人: | 深圳市华星光电技术有限公司 |
主分类号: | G03F1/38 | 分类号: | G03F1/38;G03F1/76;H01L21/027 |
代理公司: | 广州三环专利商标代理有限公司 44202 | 代理人: | 郝传鑫;熊永强 |
地址: | 518132 广东*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | 本发明提供一种光罩及图案化方法,通过在光罩的光罩主体上设置用于聚光的透镜,并使所述透镜遮盖所述光罩主体上的透光区。由于所述透镜具有聚光作用,使得通过所述光罩形成光阻层时,透过所述透镜的光线能够倾斜的照射于形成所述光阻层的光阻材料层上,从而使得得到的所述光阻层的光阻区的斜面与所述基板的夹角相对于现有技术中减小,进而使得沉积于所述基板上的待图案化膜层与所述光阻层的斜面形成的空隙增大,使得剥离图案化的所述光阻层的剥离液会容易的渗入所述空隙中,进而容易的通过所述空隙渗入所述光阻层与所述基板之间,从而提高所述光阻层从所述基板上剥离的效率。 | ||
搜索关键词: | 光阻层 光罩 透镜 基板 图案化 渗入 光阻材料层 图案化膜层 剥离图案 聚光作用 斜面形成 剥离液 光阻区 聚光的 透光区 沉积 减小 遮盖 照射 剥离 | ||
【主权项】:
一种光罩,其特征在于,包括光罩主体及设于所述光罩主体上的透镜,所述光罩主体包括透光区及遮光区,所述透镜遮挡所述透光区,所述透镜用于聚光。
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G03 摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备
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