[发明专利]一种金属薄膜退镀方法及系统有效
| 申请号： | 201711459900.2 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN108103566B | 公开（公告）日： | 2021-02-02 |
| 发明（设计）人： | 桑建新;董耀宗;胡立伟 | 申请（专利权）人： | 上海冠众光学科技有限公司;苏州印象镭射科技有限公司 |
| 主分类号： | C25F5/00 | 分类号： | C25F5/00;C25F7/00 |
| 代理公司： | 上海硕力知识产权代理事务所(普通合伙) 31251 | 代理人： | 郭桂峰 |
| 地址： | 201400 上海*** | 国省代码： | 上海;31 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明提供了一种金属薄膜退镀方法及系统，其中方法包括步骤S00根据压印有全息图光栅微结构的金属薄膜的参数设置电解液的参数；步骤S10将所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜放置于有所述电解液的电解电场中进行退镀；步骤S20在预设条件下，将所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜的无光栅微结构区域退镀成透明状态。系统包括退镀装置；所述退镀装置包括电解液水槽、电极、直流电源。本发明通过将压印有全息图光栅微结构的金属薄膜放置于有电解液的电解电场中，实现精准选择性退镀的目的。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 金属 薄膜 方法 系统 | ||
【主权项】：
1.一种金属薄膜退镀方法，其特征在于，包括：步骤S00根据压印有全息图光栅微结构的金属薄膜的参数设置电解液的参数；步骤S10将所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜放置于有所述电解液的电解电场中进行退镀；步骤S20在预设条件下，将所述压印有全息图光栅微结构的金属薄膜的无光栅微结构区域退镀成透明状态。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于上海冠众光学科技有限公司;苏州印象镭射科技有限公司，未经上海冠众光学科技有限公司;苏州印象镭射科技有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711459900.2/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种晶粒细化金属电镀装置
- 下一篇：一种导流筒及其制作方法和材料
