[发明专利]光罩、显示面板及其非显示部的制作方法在审
| 申请号： | 201711460267.9 | 申请日： | 2017-12-28 |
| 公开（公告）号： | CN107908073A | 公开（公告）日： | 2018-04-13 |
| 发明（设计）人： | 曾霜华 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | G03F1/54 | 分类号： | G03F1/54;H01L21/77 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人： | 孙伟峰,武岑飞 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种光罩，其包括多个全透光部和多个遮光部，所述全透光部和所述遮光部交替设置，所述遮光部包括不透光子部以及设置于所述不透光子部和所述全透光部之间的N个透光子部，所述N个透光子部的透光率沿着从所述不透光子部到所述全透光部的方向依次增大，N≥2且N为整数。本发明通过改进光罩结构，以使利用改进后的光罩形成的非显示部的平坦层中的凹槽的槽壁平整光滑，并且该凹槽的槽壁的坡度平缓，从而不会使后续制程中不会出现光阻残留的现象。 | ||
| 搜索关键词： | 显示 面板 及其 制作方法 | ||
【主权项】：
一种光罩，其特征在于，包括多个全透光部和多个遮光部，所述全透光部和所述遮光部交替设置，所述遮光部包括不透光子部以及设置于所述不透光子部和所述全透光部之间的N个透光子部，所述N个透光子部的透光率沿着从所述不透光子部到所述全透光部的方向依次增大，N≥2且N为整数。
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G03 摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F 图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版，例如掩膜，光掩膜；其所用空白掩膜或其所用薄膜；其专门适用于此的容器；其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如通过电子束；其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜，例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM]；PSM空白；其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜；其制备，例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜，例如用于校准或测试的特殊涂层或标记；其制备
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