[发明专利]一种阵列基板的制作方法及阵列基板和显示装置

摘要

一种阵列基板的制作方法及阵列基板，制作方法包括如下步骤：在基板上形成包括源极和漏极的薄膜晶体管；在源极和漏极上形成钝化层；在钝化层上形成与源极和所述漏极对应的第一过孔；在钝化层上形成平坦化层；对平坦化层进行显影曝光处理，在平坦化层上形成第二过孔图案；采用氧气对平坦化层进行灰化处理，在平坦化层上形成第二过孔，第二过孔与第一过孔对齐；采用还原剂对平坦化层进行二次灰化处理。上述阵列基板的制作方法中，通过采用O2和还原剂对含有第二过孔图案的平坦化层进行灰化处理，降低了源极或漏极与阳极电极的搭接电阻，避免了阵列基板的屏幕在使用时出现发热、色彩显示不均及功耗高等不良问题。

主权项

1.一种阵列基板的制作方法，其特征在于，包括如下步骤：在基板上形成包括源极和漏极的薄膜晶体管；在源极和漏极上形成钝化层；在所述钝化层上形成与所述源极和所述漏极对应的第一过孔；在所述钝化层上形成平坦化层；对所述平坦化层进行显影曝光处理，在所述平坦化层上形成第二过孔图案；采用氧气对所述平坦化层进行灰化处理，在所述平坦化层上形成第二过孔，所述第二过孔与所述第一过孔对齐；采用还原剂对所述平坦化层进行二次灰化处理。