[发明专利]液体供应单元、基板处理装置及去除气泡的方法

摘要

公开了用于对基板进行液体处理的装置和方法。该基板处理装置包括：液体供应单元，其被构造成将混合有第一液体和第二液体的处理液体供应到基板单元上，其中该液体供应单元包括：喷嘴，其被构造成排出处理液体；第一液体供应管线，其将第一液体供应到该喷嘴；以及第二液体供应管线，其将第二液体供应到该喷嘴，并且该喷嘴包括：主体，其在其内部具有供第一液体和第二液体混合的混合空间以及从混合空间延伸的缓冲空间；以及碰撞构件，其位于缓冲空间中且被构造为降低被供应到缓冲空间的处理液体的流速。

主权项

1.一种基板处理装置，包括：基板支撑单元，其被构造为支撑基板；和液体供应单元，其被构造为将其中混合有第一液体和第二液体的处理液体供应到由所述基板支撑单元支撑的所述基板上，其中所述液体供应单元包括：喷嘴，其被构造成排出所述处理液体；第一液体供应管线，其被构造成将所述第一液体供应到所述喷嘴；以及第二液体供应管线，其被构造成将所述第二液体供应到所述喷嘴，其中所述喷嘴包括：主体，其在其内部具有供所述第一液体和所述第二液体混合的混合空间和从所述混合空间延伸的缓冲空间；和碰撞构件，其位于所述缓冲空间内并且被构造为降低被供应到所述缓冲空间的所述处理液体的流速。