[发明专利]一种高效MWT太阳能电池的制备方法在审
| 申请号： | 201711469159.8 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN108198906A | 公开（公告）日： | 2018-06-22 |
| 发明（设计）人： | 李质磊;安欣睿;逯好峰;吴仕梁;路忠林;盛雯婷;张凤鸣 | 申请（专利权）人： | 南京日托光伏科技股份有限公司 |
| 主分类号： | H01L31/18 | 分类号： | H01L31/18;H01L31/0224 |
| 代理公司： | 南京苏高专利商标事务所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 王艳丽 |
| 地址： | 211800 江苏省*** | 国省代码： | 江苏;32 |
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| 摘要： | 本发明公开了一种高效MWT太阳能电池的制备方法，包括：将制绒扩散后的硅片经掩膜工序后再进行刻蚀工序，刻蚀工序结束后依次进行以下工序：背面钝化层制备：在电池片背面制备一层钝化层；正面减反膜：在电池片正面制备一层减反膜；背面保护膜：在电池片背面钝化层上覆一层保护膜；开槽：将背面的减反膜和保护膜开槽，以便铝背场浆料和硅基体形成欧姆接触；其中，掩膜工序包括在硅片扩散面制备正电极图案对应的掩膜图案；刻蚀工序包括去除硅片周边及背面的PN结，对掩膜图形以外正面扩散层进行抛结，去除掩膜浆料，去除磷硅玻璃，并进行背面抛光。本发明所制备的电池转换效率高，工艺路线设备投入少，成本低，适合规模化量产。 | ||
| 搜索关键词： | 制备 刻蚀工序 保护膜 掩膜 去除 电池片背面 太阳能电池 钝化层 浆料 开槽 电池转换效率 背面钝化层 电池片正面 正电极图案 背面抛光 工艺路线 硅片扩散 硅片周边 磷硅玻璃 欧姆接触 设备投入 掩膜图案 掩膜图形 规模化 硅基体 扩散层 铝背场 硅片 量产 制绒 背面 扩散 | ||
【主权项】：
1.一种高效MWT太阳能电池的制备方法，其特征在于，包括：将制绒扩散后的硅片经掩膜工序后再进行刻蚀工序，刻蚀工序结束后依次进行以下工序：(a)背面钝化层制备：在电池片背面制备一层钝化层；(b)正面减反膜：在电池片正面制备一层减反膜；(c)背面保护膜：在电池片背面钝化层上覆一层保护膜；(d)开槽：将背面的减反膜和保护膜开槽，以便铝背场浆料和硅基体形成欧姆接触；其中，掩膜工序包括在硅片扩散面制备正电极图案对应的掩膜图案；刻蚀工序包括去除硅片周边及背面的PN结，对掩膜图形以外正面扩散层进行抛结，去除掩膜浆料，去除磷硅玻璃，并进行背面抛光。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件；其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射，或微粒辐射敏感的，并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的，或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件；专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的，例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的，一个或多个电光源，如场致发光光源在结构上相连的，并与其电光源在电气上或光学上相耦合的
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