[发明专利]半导体设备前端模块、半导体设备及晶圆处理方法有效

专利信息
申请号: 201711474162.9 申请日: 2017-12-29
公开(公告)号: CN109994401B 公开(公告)日: 2021-07-23
发明(设计)人: 不公告发明人 申请(专利权)人: 长鑫存储技术有限公司
主分类号: H01L21/67 分类号: H01L21/67;H01L21/677
代理公司: 上海光华专利事务所(普通合伙) 31219 代理人: 余明伟
地址: 230601 安徽省合肥市*** 国省代码: 安徽;34
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摘要: 发明提供一种半导体设备前端模块、半导体设备及晶圆处理方法。半导体设备前端模块与反应腔室模块相连接并包括缓冲腔室、至少两个晶圆装载端口、至少一个机械手臂、开盒装置及控制装置。本发明的半导体设备前端模块的控制装置能够依据工艺需要将放置于晶圆装载端口的前端开口晶圆盒分别置于工作状态及待机状态,且确保一前端开口晶圆盒处于工作状态时,其他前端开口晶圆盒均处于待机状态并使得处于待机状态的前端开口晶圆盒处于关闭状态以减少污染。采用本发明的半导体设备,能够保证待处理的晶圆保持良好的清洁度,有利于工艺处理的正常进行;采用本发明的晶圆处理方法,能够有效提高晶圆处理过程中的洁净度,有效提高生产良率,降低生产成本。
搜索关键词: 半导体设备 前端 模块 处理 方法
【主权项】:
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