[发明专利]网络跟踪先前层级减除的装置及方法有效
申请号: | 201711474453.8 | 申请日: | 2017-12-29 |
公开(公告)号: | CN108695183B | 公开(公告)日: | 2021-11-12 |
发明(设计)人: | O·D·帕特森;P·林;高维鸿 | 申请(专利权)人: | 格芯(美国)集成电路科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/66 | 分类号: | H01L21/66 |
代理公司: | 北京戈程知识产权代理有限公司 11314 | 代理人: | 程伟;王锦阳 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
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摘要: | 本发明涉及网络跟踪先前层级减除的装置及方法,揭示一种执行芯片中的集成电路结构的连通性测试的方法。该连通性测试执行于该芯片的第一层级。在该芯片中识别潜在缺陷位置,其表示因过孔开路或过孔短路而容易系统性失效的过孔位置。将该潜在缺陷位置转换至该芯片的第二层级的过孔位置。该第二层级位于该第一层级下方。在转换热点以后,检查该第二层级有无缺陷。检查该第一层级上的该过孔位置有无缺陷。将该第二层级的所有缺陷转换至该第一层级的该过孔位置。利用该第二层级的该转换缺陷及该第一层级的该缺陷的先前层级减除形成缺陷的网络跟踪。 | ||
搜索关键词: | 网络 跟踪 先前 层级 减除 装置 方法 | ||
【主权项】:
1.一种方法,包括:识别因过孔开路或过孔短路而容易系统性失效的芯片中的潜在缺陷位置;通过向该芯片的选定层级施加电压而在该芯片中执行连通性测试;通过测量该选定层级的区域的电荷来定位在该连通性测试期间充电相对小于该选定层级的周围区域的邻近该检查层级的层级的区域,从而识别邻近该选定层级的该层级中的错误位置;利用网络跟踪工具识别与该错误位置电性连接的该选定层级中的区域,从而将该错误位置转换至该芯片的该选定层级;在转换该错误位置以后,通过减除转换至邻近该选定层级的该层级中的已知缺陷的该错误位置生成过孔检查位置;以及通过仅检查该选定层级中的该过孔检查位置有无缺陷来识别该选定层级中的缺陷过孔。
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H01 基本电气元件
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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