[发明专利]一种塑封元器件及其缝隙无空洞填充的工艺方法有效
申请号: | 201711482788.4 | 申请日: | 2017-12-29 |
公开(公告)号: | CN108172521B | 公开(公告)日: | 2020-04-10 |
发明(设计)人: | 高阳;陆培良;贺帅;潘明卫;高强 | 申请(专利权)人: | 合肥矽迈微电子科技有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L21/56;H01L23/31 |
代理公司: | 合肥市上嘉专利代理事务所(普通合伙) 34125 | 代理人: | 郭华俊 |
地址: | 230000 安徽省合肥市高新区*** | 国省代码: | 安徽;34 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | 本发明公开了一种塑封元器件及其缝隙无空洞填充的工艺方法,该工艺方法包括以下步骤:步骤一、基板的焊接面镀镍时添加增亮剂等改变焊接面浸润性添加剂,以对后续涂覆于所述焊接面上的焊锡膏起到聚集堆叠作用;步骤二、基板的焊接面涂焊锡膏,其中,所述焊锡膏在所述焊接面上聚集得以架高;以及步骤三、封装元器件贴装与焊接,其中,控制元器件与基板之间的间距大于所述粉末料饼无空洞填充的最小间距;以及步骤四:对贴装与焊接后的封装元器件进行粉末料饼撒料塑封。本发明的工艺方法解决了传统工艺的填充缝隙过小无法填充常规尺寸的粉末料饼的问题。增加了产品可靠性,降低了物料与工艺成本。 | ||
搜索关键词: | 一种 塑封 元器件 及其 缝隙 空洞 填充 工艺 方法 | ||
【主权项】:
1.一种塑封元器件缝隙无空洞填充的工艺方法,包括以下步骤:
步骤一、基板的焊接面镀镍时添加用于改变焊接面浸润性添加剂,以对后续涂覆于所述焊接面上的焊锡膏起到聚集堆叠作用;
步骤二、基板的焊接面涂焊锡膏,其中,所述焊锡膏在所述焊接面上聚集得以架高;
步骤三、封装元器件贴装与焊接,其中,控制元器件与基板之间的间距大于所述粉末料饼无空洞填充的最小间距;以及
步骤四:对贴装与焊接后的封装元器件进行粉末料饼撒料塑封。
2.根据权利要求1所述的塑封元器件缝隙无空洞填充的工艺方法,其特征在于,添加有改变焊接面浸润性添加剂的焊接面使焊锡膏的焊接高度加高为其涂覆厚度的2‑5倍。3.根据权利要求1所述的塑封元器件缝隙无空洞填充的工艺方法,其特征在于,所述粉末料饼无空洞填充的最小间距为所述粉末料饼外径的3‑5倍。4.一种根据权利要求1所述的塑封元器件缝隙无空洞填充的工艺方法获得的塑封元器件,包括元件器和焊接板材,其中,所述元件器的引脚通过焊锡层与焊接板材的焊接面焊接在一起,所述焊锡层呈上小下大的台状,所述元器件与基板之间的间距大于所述粉末料饼无空洞填充的最小间距。5.根据权利要求4所述的塑封元器件,其特征在于,所述粉末料饼无空洞填充的最小间距为所述粉末料饼外径的3‑5倍。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造
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