[发明专利]双功能反应炉

摘要

本发明提供了一种双功能反应炉，用于待处理基底表面材料层的生长及刻蚀，包括如下部分：用于放置待处理基底的炉管；位于炉管外围的炉体；位于炉体内且位于炉管外围的加热装置；与炉管内部相连通，且用于向炉管内通入生长气体、生长液体、刻蚀气体及刻蚀液体中的至少一者的进口组件；与炉管内部相连通的出口组件；用于将炉管与外部连通或隔离，并向炉管内传入或传出待处理基底的炉门组件。本发明的反应炉支持待处理基底表面材料层进行生长或刻蚀反应，是一种结构简单，操作容易，便于控制，能连续生产，安全性高的材料生长和刻蚀设备。

主权项

1.一种双功能反应炉，其特征在于，所述双功能反应炉用于待处理基底表面材料层的生长及刻蚀，所述双功能反应炉包括：用于放置待处理基底的炉管；炉体，位于所述炉管外围；加热装置，位于所述炉体内，且位于所述炉管外围；与所述炉管内部相连通，且用于向所述炉管内通入生长气体、生长液体、刻蚀气体及刻蚀液体中的至少一者的进口组件；出口，与所述炉管内部相连通；用于将所述炉管与外部连通或隔离，并向所述炉管内传入或传出所述待处理晶圆的炉门组件，所述炉门组件位于所述炉管的至少一端部。