[发明专利]一种基于方差维数的辐射源指纹特征提取方法有效

专利信息
申请号: 201711489288.3 申请日: 2017-12-29
公开(公告)号: CN108108712B 公开(公告)日: 2021-07-06
发明(设计)人: 赵雅琴;吴龙文;王昭;张宇鹏;李锦江 申请(专利权)人: 哈尔滨工业大学
主分类号: G06K9/00 分类号: G06K9/00;G06K9/62;G06N3/04
代理公司: 哈尔滨市松花江专利商标事务所 23109 代理人: 岳泉清
地址: 150001 黑龙*** 国省代码: 黑龙江;23
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摘要: 一种基于方差维数的辐射源指纹特征提取方法,本发明涉及辐射源指纹特征提取方法。本发明的目的是为了解决传统特征参数难以满足辐射源个体识别有效性和可靠性需求,导致辐射源个体识别正确率低的问题。一种基于方差维数的辐射源指纹特征提取方法具体过程为:一、对接收到的一维辐射源信号进行分段处理,得到一维辐射源信号段;二、对一得到的一维辐射源信号段进行方差维数特征提取,得到方差维数特征向量。本发明用于辐射源个体识别领域。
搜索关键词: 一种 基于 方差 辐射源 指纹 特征 提取 方法
【主权项】:
1.一种基于方差维数的辐射源指纹特征提取方法,其特征在于:所述方法具体过程为:步骤一、对接收到的一维辐射源信号进行分段处理,得到一维辐射源信号段S1,S2,…Si…,Sn;Si为第i个一维辐射源信号段,1≤i≤n,n取值为正整数;过程为:步骤一一、输入接收到的一维辐射源信号S,根据接收到的一维辐射源信号S的总长和特征提取分段数需求,设定信号段长度w和分段数n,每个信号段长度相同;步骤一二、确定滑动窗步长Δ,滑动窗步长Δ由式(1)得到:其中表示正向取整函数;步骤一三、调用函数G=enframe(S,w,Δ),得到函数enframe的返回值G,G形式如下:G是一个行数为n,列数为w的矩阵;得到一维辐射源信号段S1,S2,…Si…,Sn;步骤二、对步骤一得到的一维辐射源信号段进行方差维数特征提取,得到方差维数特征向量。
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