[发明专利]具有连续凹腔的加热器块在审
| 申请号： | 201711499227.5 | 申请日： | 2017-12-29 |
| 公开（公告）号： | CN109037017A | 公开（公告）日： | 2018-12-18 |
| 发明（设计）人： | 近藤裕志 | 申请（专利权）人： | ASMIP控股有限公司 |
| 主分类号： | H01J37/32 | 分类号： | H01J37/32;H01L21/67 |
| 代理公司： | 中科专利商标代理有限责任公司 11021 | 代理人： | 孙纪泉 |
| 地址： | 荷兰弗*** | 国省代码： | 荷兰;NL |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | 本发明公开一种适于安装在包含喷淋头和反应室的等离子体沉积或等离子体蚀刻设备中的加热器块，所述加热器块适于布置在所述反应室中以支撑衬底，并且包含：至少一个通孔，所述至少一个通孔通过所述加热器块；在其上表面上的多个表面，所述多个表面彼此分离并且由连续凹腔限定，并且所述连续凹腔包括：多个主凹状部或凹陷部；多个凹状通道，所述多个凹状通道实质上连接每两个相邻的主凹状部或凹陷部；和在所述加热器块的中心处的凹状部或凹陷部，所述凹状部或凹陷部具有与所述多个主凹状部或凹陷部不同的形状或尺寸。 | ||
| 搜索关键词： | 加热器 凹陷部 凹状部 凹腔 凹状通道 反应室 通孔 等离子体蚀刻设备 等离子体沉积 彼此分离 喷淋头 上表面 中心处 衬底 支撑 | ||
【主权项】：
1.一种加热器块，所述加热器块适于安装在包括喷淋头和反应室的等离子体沉积或等离子体蚀刻设备中，所述加热器块适于布置在所述反应室中以支撑衬底，并且包括：至少一个通孔，所述至少一个通孔穿过所述加热器块，和在所述加热器块的上表面上的多个表面，所述多个表面彼此分离并且由连续凹腔限定；并且所述连续凹腔包括：多个主凹状部或凹陷部，和多个凹状通道，所述多个凹状通道实质上连接每两个相邻的主凹状部或凹陷部，以及在所述加热器块的中心处的凹状部或凹陷部，该凹状部或凹陷部具有与所述多个主凹状部或凹陷部不同的形状或尺寸。
下载完整专利技术内容需要扣除积分，VIP会员可以免费下载。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于ASMIP控股有限公司，未经ASMIP控股有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/patent/201711499227.5/，转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇：一种基于复合场的带电体运动轨迹控制装置
- 下一篇：基板处理设备
