[实用新型]激光镭射膜电晕处理装置

摘要

本实用新型涉及一种激光镭射膜电晕处理装置，它包括用于对激光镭射膜进行输送导向的辊轴、用于对激光镭射膜进行电晕处理的电晕发生器和真空保护箱，所述真空保护箱位于电晕发生器和后道处理机构之间，所述真空保护箱外接真空泵，所述电晕发生器包括底部有缺口的真空辐射管，在所述真空辐射管的中心为设置有底部有开口的电子光学管，在所述电子光学管的中心线上设置有阴极管，在所述真空辐射管的底部缺口两侧安装有阳极板，所述真空辐射管的底部通过密封罩将缺口封住，且在密封罩上开设有电子束孔。本实用新型不仅能提高电晕处理的效果，而且可以避免电晕后薄膜与空气接触产生氧化现象，提高薄膜的生产质量。

主权项

一种激光镭射膜电晕处理装置，其特征在于它包括用于对激光镭射膜进行输送导向的辊轴（1）、用于对激光镭射膜进行电晕处理的电晕发生器（2）和真空保护箱（3），所述真空保护箱（3）位于电晕发生器（2）和后道处理机构之间，所述真空保护箱（3）外接真空泵（4），所述电晕发生器（2）包括底部有缺口的真空辐射管（2.1），在所述真空辐射管（2.1）的中心为设置有底部有开口的电子光学管（2.2），在所述电子光学管（2.2）的中心线上设置有阴极管（2.3），在所述真空辐射管（2.1）的底部缺口两侧安装有阳极板（2.4），所述真空辐射管（2.1）的底部通过密封罩（5）将缺口封住，且在密封罩（5）上开设有电子束孔（5.1）。