[实用新型]一种可常温控温的晶体炉装置

摘要

本实用新型提供一种可常温控温的晶体炉装置，包括晶体炉盖板(1)、晶体炉炉体(2)、制冷元件(3)、散热底座(4)、第一铟箔片(5)、第二铟箔片(6)、第三铟箔片(7)、第四铟箔片(8)和保温罩(9)；待控温的晶体放置在晶体炉炉体(2)上的凹槽(10)处，热敏电阻由导热胶带固定在晶体炉炉体(2)的前端面(11)处。该晶体炉结构紧凑、稳定性好、保温性能优良，配合山大宇光公司生产的YG‑4S精密温度控制仪，可将晶体温度精确控制在工作温度点，控温精度达到0.001℃。该装置可应用在激光器件中和量子光学实验中。

主权项

一种可常温控温的晶体炉装置，其特征在于，包括晶体炉盖板(1)、晶体炉炉体(2)、制冷元件(3)、散热底座(4)、第一铟箔片(5)、第二铟箔片(6)、第三铟箔片(7)、第四铟箔片(8)和保温罩(9)；第一铟箔片(5)和第二铟箔片(6)依次放置在晶体炉盖板(1)和晶体炉炉体(2)之间，第三铟箔片(7)放置在晶体炉炉体(2)和制冷元件(3)之间，第四铟箔片(8)放置在制冷元件(3)和散热底座(4)之间；晶体炉盖板(1)由尼龙螺丝固定在晶体炉炉体(2)上，晶体炉炉体(2)由尼龙螺丝固定在散热底座(4)上，保温罩(9)由尼龙螺丝固定在散热底座(4)上；待控温的晶体放置在晶体炉炉体(2)上的凹槽(10)处，热敏电阻由导热胶带固定在晶体炉炉体(2)的前端面(11)处。