[实用新型]LOFT建筑有效

专利信息
申请号: 201720034431.9 申请日: 2017-01-11
公开(公告)号: CN206477620U 公开(公告)日: 2017-09-08
发明(设计)人: 姜天;朱清华;李卓;周其文;陈希;王鑫;玉竹 申请(专利权)人: 上海尤安建筑设计股份有限公司
主分类号: E04H1/04 分类号: E04H1/04
代理公司: 北京挺立专利事务所(普通合伙)11265 代理人: 倪钜芳
地址: 200082 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种LOFT建筑,包括第一结构层,第二结构层与第三结构层,第一结构层具有第一上升地板与第一下沉地板,第二结构层具有第二下沉地板与第二上升地板,所述第三结构层具有第三上升地板与第三下沉地板,第一上升地板与第二下沉地板的间距为4.2m,第一下沉地板与第二上升地板的间距为4.8m,第二下沉地板与第三上升地板的间距为4.8m,第二上升地板与第三下沉地板的间距为4.2m,第一下沉地板与第二上升地板间设置第一夹层地板,第一夹层地板与第一下沉地板的间距为2.45m,第一夹层地板与第二上升地板的间距为2.35m;第二下沉地板与第三上升地板间设置第二夹层地板,第二夹层地板与第二下沉地板的间距为2.45m,第二夹层地板与第三上升地板的间距为2.35m。本建筑提高了舒适度。
搜索关键词: loft 建筑
【主权项】:
一种LOFT建筑,包括本体,所述本体具有第一结构层,第二结构层与第三结构层,所述第一结构层具有第一上升地板与第一下沉地板,所述第一上升地板与第一下沉地板间设置第一过渡结构;所述第二结构层具有第二下沉地板与第二上升地板,所述第二下沉地板与第二上升地板间设置第二过渡结构;所述第三结构层具有第三上升地板与第三下沉地板,所述第三上升地板与第三下沉地板间设置第三过渡结构;所述第一上升地板与第二下沉地板的间距为4.2m,所述第一下沉地板与第二上升地板的间距为4.8m,所述第二下沉地板与第三上升地板的间距为4.8m,所述第二上升地板与第三下沉地板的间距为4.2m,其特征在于,所述第一下沉地板与第二上升地板间设置第一夹层地板,所述第一夹层地板与第一下沉地板的间距为2.45m,所述第一夹层地板与第二上升地板的间距为2.35m;所述第二下沉地板与第三上升地板间设置第二夹层地板,所述第二夹层地板与第二下沉地板的间距为2.45m,所述第二夹层地板与第三上升地板的间距为2.35m。
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