[实用新型]一种带有透明真空吸盘的倒置曝光设备有效

专利信息
申请号: 201720050159.3 申请日: 2017-01-16
公开(公告)号: CN206411417U 公开(公告)日: 2017-08-15
发明(设计)人: 傅志伟 申请(专利权)人: 上海誉刻智能装备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 哈尔滨市阳光惠远知识产权代理有限公司23211 代理人: 彭素琴
地址: 201612 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要: 实用新型公开了一种带有透明真空吸盘的倒置曝光设备,属于直写曝光机技术领域。本实用新型的带有透明真空吸盘的倒置曝光设备,包括支撑结构、曝光装置、对准装置、载样装置和控制装置;所述支撑结构下部为一箱体结构,曝光装置和控制装置位于所述箱体结构内,所述载样装置嵌于箱体结构上表面并位于曝光装置上方;所述支撑结构上部为墙面结构或龙门结构,所述对准装置与支撑结构上部连接且位于载样装置的上方;所述载样装置4包括透明真空吸盘和真空发生装置。本实用新型的设备能够实现对产品双面曝光图像精确对位;设备简单,节约成本。同时,样品夹放于密闭环境或真空环境中,可以避免受到外界环境的污染,保证了曝光的良好质量。
搜索关键词: 一种 带有 透明 真空 吸盘 倒置 曝光 设备
【主权项】:
一种带有透明真空吸盘的倒置曝光设备,其特征在于,包括支撑结构、曝光装置、对准装置、载样装置和控制装置;所述支撑结构下部为一箱体结构,曝光装置和控制装置位于所述箱体结构内,所述载样装置嵌于箱体结构上表面并位于曝光装置上方;所述支撑结构上部为墙面结构或龙门结构,所述对准装置与支撑结构上部连接且位于载样装置的上方;所述载样装置包括透明真空吸盘和真空发生装置。
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