[实用新型]一种用于钼圆片加工的清洗装置

摘要

本实用新型公开了一种用于钼圆片加工的清洗装置，包括第一喷水座、第二喷水座、送水分管、供水箱、支撑杆、旋转连杆、活动擦架、喷水孔、转轴、抓架、连接杆、插钩、翻转轴、插装轴、抽填杆、抹擦板和软垫环。本实用新型的有益效果是该清洗装置采用双水座共同喷洗设计，且装置上的旋转连杆在用抓架抓取钼圆片后，在两侧的喷水座之间进行旋转，使钼圆片清洗的更加全面彻底，保证了钼圆片的洁净性；该装置的喷水座上设有活动擦架，其根据清洗钼圆片的规格大小，自由改变抹擦板的抽出长度，在钼圆片清洗完成后对其进行擦抹除水，方便后续的加工及包装，保证了使用的便捷性；该清洗装置操作方便，稳固牢靠，各构件连接灵活。

主权项

一种用于钼圆片加工的清洗装置，包括第一喷水座(1)，其特征在于：所述第一喷水座(1)一侧设置第二喷水座(2)，且所述第二喷水座(2)一侧设置送水分管(3)，所述送水分管(3)一侧设置供水箱(4)，且所述第一喷水座(1)上方设置支撑杆(5)，所述支撑杆(5)上方设置旋转连杆(6)，且所述旋转连杆(6)下方设置活动擦架(7)，所述第一喷水座(1)上设置喷水孔(8)，且所述旋转连杆(6)上设置转轴(9)，所述转轴(9)下方设置抓架(10)，且所述抓架(10)上方设置连接杆(11)，所述抓架(10)下方设置插钩(12)，且所述插钩(12)上方设置翻转轴(13)，且所述活动擦架(7)上设置插装轴(14)，所述插装轴(14)内部设置抽填杆(15)，且所述抽填杆(15)一侧设置抹擦板(16)，所述抹擦板(16)下方设置软垫环(17)。