[实用新型]一种改进的磁控溅射镀膜设备

摘要

一种改进的磁控溅射镀膜设备，包括真空室体、呈圆盘状的基片台，真空室体上方安装有伺服电机和减速机构，与伺服电机输出端相对的真空室体底面位置安装有一轴承，一连接轴穿过所述基片台中心且两端分别与动力装置输出端连接及固定于轴承上，连接轴与基片台螺纹连接，且通过预调螺母固定，基片台上沿其圆周方向均匀设置有若干个溅射孔，每个溅射孔与其外圆边相切设置有两平行的压板条，压板条通过调节螺栓固定在基片台上，真空室体底面上与基片台上溅射孔相对的位置固定设有至少一个靶座。本装置不仅有效的拓展了样品台的利用效率，更好的满足了试验对样品数量、多元膜的均匀性及一致性的要求，同时还提高了试验效率，极大的降低了投资成本。

主权项

一种改进的磁控溅射镀膜设备，其包括真空室体，其特征在于：其还包括呈圆盘状的基片台，所述真空室体上方安装有动力装置，动力装置包括伺服电机和减速机构，伺服电机输出端穿过真空室体顶面设置，与伺服电机输出端相对的真空室体底面位置安装有一轴承，一连接轴穿过所述基片台中心且两端分别与动力装置输出端连接及固定于轴承上，所述连接轴与基片台螺纹连接，且通过预调螺母固定，所述基片台上沿其圆周方向均匀设置有若干个溅射孔，每个溅射孔与其外圆边相切设置有两平行的压板条，所述压板条通过调节螺栓固定在基片台上，所述真空室体底面上与基片台上溅射孔相对的位置固定设有至少一个靶座。