[实用新型]一种曝光机的高精度定位及检测装置有效

专利信息
申请号: 201720088187.4 申请日: 2017-01-20
公开(公告)号: CN206411421U 公开(公告)日: 2017-08-15
发明(设计)人: 陈振才 申请(专利权)人: 东莞市多普光电设备有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 深圳市惠邦知识产权代理事务所44271 代理人: 殷齐齐
地址: 523000 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要: 实用新型涉及自动化设备领域,特别涉及一种曝光机的高精度定位及检测装置,包括曝光机座,在曝光机座上设置有晒架组件,晒架组件包括上框架组件和下框架组件,在上框架组件的侧边上设置有多个上定位件,在下框架组件设置有与上定位件配合工作的下定位件,下定位件上设置有两个导向轮以及与上定位件大小匹配的定位孔,导向轮设置于所述定位孔的上方,在下框架组件的下端部设置有PCB顶起组件,在下框架组件的下方设置有光学检测装置,光学检测装置上设置有可自由移动的第一检测摄像机和第二检测摄像机。本实用新型结构简单,有效提高机械重复精度,确保热胀尺寸不会偏位;有效提高产品良率,操作步骤上明显节省了时间,提高生产效率。
搜索关键词: 一种 曝光 高精度 定位 检测 装置
【主权项】:
一种曝光机的高精度定位及检测装置,其特征在于,包括曝光机座,在所述曝光机座上设置有晒架组件,所述晒架组件包括上框架组件和下框架组件,在所述上框架组件的侧边上设置有多个上定位件,在所述下框架组件设置有与上定位件配合工作的下定位件,所述下定位件上设置有两个导向轮以及与上定位件大小匹配的定位孔,所述导向轮设置于所述定位孔的上方,在所述下框架组件的下端部设置有PCB顶起组件,在所述下框架组件的下方设置有光学检测装置,所述光学检测装置上设置有可自由移动的第一检测摄像机和第二检测摄像机。
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