[实用新型]一种全反射式消光晕光束匀化光学系统有效
| 申请号： | 201720138311.3 | 申请日： | 2017-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN206431372U | 公开（公告）日： | 2017-08-22 |
| 发明（设计）人： | 邵华江;李思佳;李思泉 | 申请（专利权）人： | 上海嘉强自动化技术有限公司 |
| 主分类号： | G02B27/09 | 分类号： | G02B27/09 |
| 代理公司： | 北京权智天下知识产权代理事务所(普通合伙)11638 | 代理人： | 王新爱 |
| 地址： | 201611 上海市*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | 本实用新型公开了一种全反射式消光晕光束匀化光学系统，包括第一片双曲面反射镜、第一片离轴抛物镜、第一片曲面反射镜阵列、第二片曲面反射镜阵列、第二片离轴抛物镜以及第二片双曲面反射镜，且所有镜片均为90°光束偏转角，所有镜片中心对称面共面，本实用新型结构设计新颖，采用全反射式消光晕光束匀化光学系统，基于双曲面镜与离轴抛物镜组合特性，基于双片反射镜阵列光束匀化整形及消光晕特性，基于金属镜片的直接水冷与良好导热性，适用于光纤输出类激光束匀化整形，尤其在万瓦级高功率大光纤芯径的光纤输出类激光器光束匀化更具优势，可大幅提升激光熔覆、淬火等激光加工应用性能。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 全反射 光晕 光束 光学系统 | ||
【主权项】：
一种全反射式消光晕光束匀化光学系统,其特征在于：包括第一片双曲面反射镜、第一片离轴抛物镜、第一片曲面反射镜阵列、第二片曲面反射镜阵列、第二片离轴抛物镜以及第二片双曲面反射镜，且第一片双曲面反射镜、第一片离轴抛物镜、第一片曲面反射镜阵列、第二片曲面反射镜阵列、第二片离轴抛物镜以及第二片双曲面反射镜镜片均为90°光束偏转角，第一片双曲面反射镜、第一片离轴抛物镜、第一片曲面反射镜阵列、第二片曲面反射镜阵列、第二片离轴抛物镜以及第二片双曲面反射镜镜片中心对称面共面；其中，所述第一片双曲面反射镜与第一片离轴抛物镜、第二片离轴抛物镜与第二片双曲面反射镜镜面中心法线对应相互垂直，所述第一片离轴抛物镜、第一片曲面反射镜阵列、第二片曲面反射镜阵列以及第二片离轴抛物镜镜面中心法线彼此相互平行。
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