[实用新型]一种等离子体原位刻蚀与辅助生长的石墨烯制备系统有效
| 申请号： | 201720140485.3 | 申请日： | 2017-02-16 |
| 公开（公告）号： | CN206502603U | 公开（公告）日： | 2017-09-19 |
| 发明（设计）人： | 王振中 | 申请（专利权）人： | 厦门烯成石墨烯科技有限公司 |
| 主分类号： | C01B32/184 | 分类号： | C01B32/184 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 361015 福建省厦门市*** | 国省代码： | 福建;35 |
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| 摘要： | 本实用新型涉及石墨烯制备系统的技术领域，特别涉及到一种等离子体原位刻蚀与辅助生长的石墨烯制备系统，其特征在于所述系统由机架、高温管式炉、石英管、微波等离子体发生装置、微波等离子体刻蚀装置、磁力杆组成。所述石英管通过支撑机构固定在机架上；所述高温管式炉通过滑动轨道连接在机架上,沿石英管外壁径向移动；所述系统还包括进气组，所述进气组包括气源和进气石英管，所述进气石英管的一端从石英管进样端延伸至石英管中，另一端在石英管外与气源相连；所述微波等离子发生装置包围在石英管外的进气石英管外部；所述微波等离子体刻蚀装置包围在石英管外部，设置在磁力杆和高温管式炉之间。通过控制生长和刻蚀的次数，该系统可以层数可控地制备石墨烯层。 | ||
| 搜索关键词： | 一种 等离子体 原位 刻蚀 辅助 生长 石墨 制备 系统 | ||
【主权项】：
一种等离子体原位刻蚀与辅助生长的石墨烯制备系统，其特征在于：所述系统由机架、高温管式炉、石英管、微波等离子体发生装置、微波等离子体刻蚀装置、磁力杆组成；所述石英管通过支撑机构固定在机架上；所述高温管式炉通过滑动轨道连接在机架上,沿石英管外壁径向移动；所述系统还包括进气组，所述进气组包括气源和进气石英管，所述进气石英管的一端从石英管进样端延伸至石英管中，另一端在石英管外与气源相连；所述微波等离子发生装置包围在石英管外的进气石英管外部；所述微波等离子体刻蚀装置包围在石英管外部，设置在磁力杆和高温管式炉之间。
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